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钛圆靶

适用于溅射镀膜,在半导体芯片,MEMS传感器,光电器件,宽禁带半导体,石墨烯等行业领域广泛应用。

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产品详情

中国牌号:TA1,TA2,TA3,TA9,TA10,TC4,TC11.

美国牌号:Gr1,Gr2,Gr3,Gr7,Gr11,Gr5.

中国标准:GB/T 16598,GB/T2965.

美国标准:ASTM F2113ASTM F1512.

加工工艺:锻造,轧制。

表面:车光,倒角,表面清洁光滑,无起皮,气孔,裂纹等缺陷。

规格:φ100×40,φ98×40,φ95×45,φ90×40,φ85×35,φ65×40.

化学成分:

Grade

N

C

H

Fe

O

Al

V

Pb

Mo

Ni

Ti

TA1/Gr1

0.03

0.08

0.015

0.2

0.18

/

/

/

/

/

Balance

TA2/Gr2

0.03

0.08

0.015

0.3

0.25

/

/

/

/

/

Balance

TA3/Gr3

0.05

0.08

0.015

0.3

0.35

/

/

/

/

/

Balance

TA4/Gr4

0.05

0.08

0.015

0.50

0.40

/

/

/

/

/

Balance

TC4/Gr5

0.05

0.08

0.015

0.4

0.2

5.5-6.75

3.5-4.5

/

/

/

Balance

TA9/Gr7

0.03

0.08

0.015

0.3

0.25

/

/

0.12-0.25

/

/

Balance

TA18/Gr9

0.03

0.08

0.015

0.25

0.15

2.5-3.5

2.0-3.0

/

/

/

Balance

主要应用:适用于溅射镀膜,在半导体芯片,MEMS传感器,光电器件,宽禁带半导体,石墨烯等行业领域广泛应用。


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